النحاس / الألومنيوم / معدات الاخرق الكربوني ، نظام ترسيب الاخرق المغنطيسي العالي الفراغ
يستخدم نظام الترسيب UHV الاخرق الكاثود الاخرق كمصادر ترسيب PVD. انها دائما كومبليد رفرف MF والبقع DC لتطبيقات طلاء PVD indstrial. استنادًا إلى أهداف مختلفة وطلبات سرعة الترسبات ، توفر شركة رويال تكنولوجي أدوات لتقطيع أسطواني وكاثودات لقش مستوي ، وذلك أساسًا لمعدلات الترسيب السريعة لتلبية الطلب على طلاء الإنتاج الصناعي.
يتم ترسيب نظام ترسيب الاخرق ذو المغنطيسية الفائقة بالتصفيح لطبقة طبقة الأفلام الموصلة لطلاء النحاس والألومونيوم والبلاستيك والمعادن. يمكن أن تكثف فيلم نانو رقيقة على ركائز. باستثناء Ag الاخرق ، فإنه يمكن أيضا إيداع أهداف Ni ، Au ، Ag ، Al ، Cr ، الفولاذ المقاوم للصدأ.
يمكن أن تودع أفلام التوحيد عالية على ركائز مختلفة: panle البلاستيك ، panle PC ، ورقة الألومنيوم ، صفائح السيراميك ، السيراميك Al2O3 ، AlN ، صفائح السيليكون إلخ.
تخطيط معدات طلاء الاخرق RTSP1215
RTSP سلسلة تطبيقات الاخرق طلاء المعدات:
1. متوفرة على ركائز: البلاستيك ، البوليمر ، الزجاج والسيراميك ، الفولاذ المقاوم للصدأ ، النحاس ورقة ، لوحة الألومنيوم إلخ.
2. لإنشاء فيلم Nano مثل: TiN ، TiC ، TiCN ، Cr ، CrC ، CrN ، Cu ، Ag ، Au ، Ni ، Al
RT-SP سلسلة ميزات تصميم معدات طلاء الاخرق:
1. تصميم قوي ، جيد لمساحة محدودة للغرفة
2. سهولة الوصول للصيانة والإصلاح
3. نظام الضخ السريع للمحصول العالي
4. CE الضميمة الكهربائية القياسية ، UL القياسية هو متاح أيضا.
5. تصنيع دقيقة دقيقة
6. تشغيل مستقر لضمان إنتاج فيلم عالي الجودة.
مصدر أيون الأصلي من شركة جينكوا ، الخصائص:
1. المجالات المغناطيسية الأمثل لإنتاج شعاع البلازما الموازاة في ضغوط الاخرق القياسية
2. التنظيم الآلي للغاز للحفاظ على التيار المستمر والجهد - تحكم تلقائي متعدد الغاز
3. الجرافيت الأنود والكاثود لحماية الركيزة من التلوث وتوفير مكونات طويلة العمر
4. RF العزل الكهربائي القياسية على جميع مصادر أيون
5. التبريد المباشر للأنوود والكاثود - التبديل السريع للأجزاء
6. سهولة التبديل بين أجزاء الكاثود لتوفير مصائد مغناطيسية متعددة لتشغيل الجهد المنخفض ، أو شعاع مركزة
7. امدادات الطاقة ينظم الجهد مع ردود الفعل تعديل الغاز للحفاظ على نفس التيار في جميع الأوقات
عالية الترسيب المغنطرون الاخرق نظام ترسب المواصفات الفنية:
| نموذج | RT1215-SP |
| مواد | الفولاذ المقاوم للصدأ (S304) |
| حجم الغرفة | 001200 * 1500 مم (H) |
| نوع الغرفة | هيكل 1 باب ، عمودي |
| حزمة مضخة واحدة | مضخة دوارة VaneV Vacuum |
| مضخة فراغ الجذور | |
| المضخة الجزيئية للتعليق المغناطيسي | |
| مضخة فراغ دوارة دوارة على مرحلتين | |
| تقنية | MF Magnetron Sputtering، Linear Ion Source |
| مزود الطاقة | الاخرق امدادات الطاقة + انحياز امدادات الطاقة + ايون المصدر |
| مصدر الإيداع | 4 أزواج MF الاخرق الكاثود + ايون المصدر + العاصمة sputters |
| مراقبة | PLC + شاشة تعمل باللمس |
| غاز | عدادات تدفق كتلة الغاز (Ar ، N2 ، C2H2 ، O2) الأرجون ، النيتروجين والإيثيلين ، الأكسجين |
| نظام السلامة | العديد من السلامة المتشابكة لحماية المشغلين والمعدات |
| تبريد | مياه التبريد |
| تنظيف | توهج التفريغ / ايون المصدر |
| أقصى القوة. | 120KW |
| متوسط استهلاك الطاقة | 70KW |
